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高纯氦气存放怎么存放？

高纯氦气存放：

决定物料或产品的特征数量值，进行数量数量仲裁等等。常压下储存气体。常压易溶于常温，其储藏设备有球罐、卧罐等类型的压力容器。冷却减压贮存气温一般在0~15℃之间，油罐压力一般在0.2~0.5兆帕之间。常压低温贮藏气瓶装气应放置在通风良好的地方，与火源、热源间隔1.5米以上。不允许使用火烤，沸水烫或在太阳下暴晒。

切割水下燃烧的燃烧器分为三种：①氧、乙却和压缩空气(水深可达15m)；②氢气和压缩空气(水深可达40m)；③用氧气和液体燃料(水深可达60m)切割10mm钢板的每米氧消耗为1.2m3。氧弧焊可以焊接硅钢。氧气弧焊采用氧气与二氧化碳二元混合物作为维持气体的电弧焊，氧气份额高达20+60。产业用氮是缺乏战略资源。具体而言，几乎所有相关产品都是进口的。

高纯氮气有哪些需要注意的吗？

高纯氮气操作注意事项：密闭操作。密闭操作，提供良好的自然通风条件。烟台压缩气体，操作人员需要经过专门培训，严格遵守操作规程。防止气体泄漏到工作场所空气中。搬运时轻装轻卸，防止钢瓶及附件破损。配备泄漏应急处理设备。

瓶装氮气在运输储存、使用时都应分类堆放，高纯氦气不准靠近明火和热源，应做到勿近火、勿沾油腊、勿爆晒、勿重抛、勿撞击，严禁在气瓶身上进行引弧或电弧，严禁野蛮装卸，短距离移动氦气钢瓶应使用钢瓶***手推车，高纯氦气长距离移动钢瓶应用危险品运输运输车辆。液氮气的温度为－268.9℃，与皮肤接触能引起严重冻殇。

在集成电路、半导体和电真空器件制造中作为保护气和运载气，化学气相淀积时的载气，液体扩散源的携带气，在高温扩散炉中作为器件的保护气。高纯氮在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中，作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中，液氢加注系统务必先用高纯氮置换，再用高纯氦置换。

氮气的化学性质稳定,不活泼 只有在高温高压或者是放电的情况下才进行反应 而且0毒无污染,来源广泛，市场价值便宜，通常都是用于做标准气体的底气。下面一起看拿下高纯氮气标准气体的选择技巧。

通常，人们常用百分浓度来轰示气体的纯度，即所谓用几个“9”字的表示法。例如，某种气体浓度为99．9％，表示含有0.1% 的杂质(即杂质含量为1000ppm)。按通常的概念，显然，浓度为99.995％的气体比99．99％的气体更纯，人们使用起来似乎能更放心。但是，如果在选择纯度时限于这种考虑，则不论对科研或生产都将有不利的影响。如果只作这样的考虑，显然忽视了两个主要因素，即高纯氮气标准气体的价格和所含杂质的危害性。　

获得7个“9”以上的超高纯氮气标准气体，现已相当困难，除在实验室中能提供一部分外，在一般工业生产中难以大量提供。因此，从经济上来说，单纯追求“9”字数目的纯气体，除了在科研中还能有条件地接受之外，在一般生产上是根本无法接受的。

我们应该从气体中所含杂质的浓度和该杂质对本工艺的危害性角度出发来选择使用高纯气体。这是因为目前要使气体中的杂质总量降到lppm以下虽然是困难的，但对将单项有害杂质降到l×10-9或更低的水平还是可能的。按目前的工艺水平，硅中杂质总含量不会低于10-8(1ppm)的水平，但是，对其中有危害的电活性杂质磷、硼等的单项控制，巳达1×10-8 ～l×10-10 。(即O.1～O.O1ppb)的水平。

在高纯度气体标准物质研制中对微量或痕量杂质的准确监测，往往是研制工作中的难点。高纯气体是保证半导体芯片、大规模集成电路生产质量的关键因素，高纯气体的生产要受到众多因素的影响，从称量配气到使用，它要流经很多管道，接触许多配件、控制装置和净化设备，在长期运转过程中，受配件、装置、材质的影响，局部可能发生泄漏或渗漏，均会造成高纯气体的污染。在制备高纯气体标准物质的过程中，同样也受到上述各种因素的影响。因此，对高纯气体纯度的监测，是保证生产过程产品质量的关键环节。

为保证高纯气体标准物质的质量，必须配备高素质的分析人员进行检测和分析工作，其杂质含量应保证控制在10-6、10-9、10-12数量级。对从事高纯气体质量监测的实验室应当配置高精度的分析仪器，并且每年要进行计量认证，虽然投资较高，但对保证高纯气体的质量,提供准确可靠的分析数据是必要的。